• 专利附录
  • 专利说明
  • 权利要求
  • 类似技术
  • 同族专利
  • 引用文献
  • 法律状态
  • 优先权
    • 专利摘要:
    本發明旨在提供一種電動致動器，可防止微粒離開本體。其中電動致動器10包含：本體11，由細長狀框體構成；滑件12，以可任意往復之方式沿該本體11長邊方向移動；開口部13，對應於該滑件12之移動通道形成於本體11之側面；及防塵密封帶14，設置成包覆該開口部13；且包含一對電極21，該一對電極21於開口部13之兩旁自本體11朝該本體11外側突出，且沿本體11之長邊方向延伸設置，俾包夾該開口部13，於一對電極21之上部電極21b產生正電位，於一對電極21之下部電極21a產生負電位。
    公开号:TW201318944A
    申请号:TW101121612
    申请日:2012-06-15
    公开日:2013-05-16
    发明作者:Shinji Wakabayashi
    申请人:Tokyo Electron Ltd；
    IPC主号:B65G54-00
    专利说明:
    電動致動器
    本發明係關於包含沿一方向往復移動之滑件之電動致動器。
    對半導體用晶圓(以下僅稱「晶圓」。)等基板施行既定處理之基板處理裝置中，於該基板處理裝置內以直線狀移動晶圓時，使用電動致動器。
    圖8係用來概略說明基板處理裝置中所使用之習知之電動致動器構成之圖，圖8(A)係前視圖，圖8(B)係底視圖，圖8(C)係關於圖8(A)中線C-C之剖面圖。
    電動致動器80中，板狀滑件82如圖中白描箭頭所示以任意往復之方式沿細長狀立方體所構成之本體81之長邊方向移動。滑件82隔著托架85連接與配置於本體81內之軌道83卡合之導件84，藉由皮帶86沿軌道83驅動導件84時，與導件84一齊移動。於滑件82設有複數螺孔87，藉由使安裝螺釘(未圖示)螺合各螺孔87，朝滑件82安裝例如載置晶圓之拾取器(未圖示)，移動滑件82以移動晶圓。
    於電動致動器80本體81之側面，為使滑件82或托架85可沿本體81長邊方向移動，沿長邊方向設有開口部88，而該開口部88大致由防塵密封帶89包覆。防塵密封帶89防止導件84沿軌道83驅動時因磨擦產生之微粒朝本體81外側流出(參照例如非專利文獻1。)。 【先前技術文獻】 【非專利文獻】
    【非專利文獻1】“電動致動器 滑件型”，p.8,13，[online]，SMC股份有限公司，[平成23年5月13日檢索]，網際網路(URL：http：//www.s mcworld.com/new/pdf/S100-87B-LEF.pdf)
    然而，上述電動致動器82中於開口部88產生之間隙，具體而言本體81及防塵密封帶89之間隙90有數十μm，故如圖9所示，有時粒徑數十nm之微粒P會通過間隙90而朝本體81外側流出。
    另一方面，近年來，晶圓中加工之微細化獲得進展，產生例如以數十nm形成於晶圓表面藉由蝕刻方式形成之溝槽寬或孔洞徑之必要，故通過間隙90、粒徑數十nm之微粒P一旦附著於晶圓表面，有時即會成為由該晶圓製造之半導體元件缺陷之原因。因此，需防止通過間隙90、粒徑數十nm之微粒P離開電動致動器82而附著於晶圓表面。
    本發明之目的在於提供一種電動致動器，可防止微粒離開本體。
    為達成上述目的，申請專利範圍1之電動致動器包含：本體，由細長狀框體所構成；基部，以可任意往復之方式沿該本體長邊方向移動；開口部，對應於該基部之移動通道而形成於該本體側面；及密封構件，設置成包覆該開口部；且該電動致動器之特徵在於包含一對電極，該一對電極於該開口部兩旁自該本體朝該本體之外側突出，且沿該本體長邊方向延伸設置，俾包夾該開口部，於該一對電極其中一者產生正電位，於該一對電極其中另一者產生負電位。
    申請專利範圍2之電動致動器如申請專利範圍第1項，其中維持該本體內部壓力高於該本體外部壓力。
    申請專利範圍3之電動致動器如申請專利範圍第1或2項，其中該基部包含朝該本體之外側突出之突出部，該突出部至少具有1個彎曲處，該一對電極包夾該基部之該突出部，且沿該經包夾之突出部彎曲。
    申請專利範圍4之電動致動器如申請專利範圍第1至3項中任一項，其中該開口部朝上方開口。
    申請專利範圍5之電動致動器如申請專利範圍第1至4項中任一項，其中安裝運送基板之基板運送裝置於該基部。
    申請專利範圍6之電動致動器如申請專利範圍第1至5項中任一項，其中在該一對電極與該本體之間夾設絕緣構件，該一對電極與該本體電性絕緣。
    申請專利範圍7之電動致動器中，該密封構件係密封帶。
    依本發明，在形成於本體側面之開口部兩旁，包夾該開口部而自本體朝該本體之外側突出，且沿本體長邊方向延伸設置之一對電極其中一方中產生正電位，一對電極其中另一方中產生負電位，故自本體內部經由開口部及密封帶之間隙朝本體之外側流出之帶電之微粒因靜電力而吸附於產生與該帶電之微粒電荷極相反之一極之電位之電極。其結果，可防止帶電之微粒離開本體。
    以下，參照圖式並同時說明關於本發明實施形態。
    首先，說明關於依本發明第1實施形態之電動致動器。
    圖1概略顯示依本實施形態之電動致動器構成，圖1(A)係前視圖，圖1(B)係底視圖，圖1(C)係關於圖1(A)中線C-C之剖面圖。
    電動致動器10包含：本體11，由細長狀立方體構成；大致呈立方體狀之滑件12(基部)，配置於該本體11側面，如圖中白描箭頭所示，可沿本體11長邊方向任意往復而移動；矩形開口部13，對應滑件12之移動通道而形成於本體11之側面；及防塵密封帶14，設於本體11俾包覆該開口部13。
    本體11包含：剖面大致呈H字狀之軌道15，於該本體內部沿該本體11長邊方向延伸設置；剖面大致呈ㄇ字狀之導件16，卡合該軌道15；及馬達(未圖示)，以皮帶17沿軌道15驅動該導件16。
    導件16包含埋設於與軌道15對向之面之軸承(未圖示)，藉由該軸承在軌道15上滑行。
    導件16隔著剖面大致呈環狀之托架18連接滑件12。配置托架18俾於開口部13包覆防塵密封帶14，導件16之剖面形狀自本體11內部經由本體11及防塵密封帶14之間隙19朝本體11外側露出。且維持托架18與本體11及防塵密封帶14之非接觸狀態。藉此，托架18沿本體11長邊方向移動時，於開口部13雖存在防塵密封帶14，但托架18可不干擾本體11或防塵密封帶14而移動。
    且滑件12包含形成於與本體11側相反之一面之複數螺孔20。藉由使安裝螺釘螺合各螺孔20安裝安裝對象構件，例如運送臂基部於滑件12。且電動致動器10中，導件16因馬達被驅動而沿軌道15移動時，與托架18及滑件12一齊移動。因此，電動致動器10可令安裝於滑件12之安裝對象構件沿本體11長邊方向移動。
    且電動致動器10包含於開口部13兩旁自本體11朝本體11外側突出之一對電極21。一對電極21由下列者構成：板狀下部電極21a，剖面呈L字狀而彎曲；及板狀上部電極21b，剖面與下部電極21a之剖面呈鏡面對稱而彎曲；且下部電極21a及上部電極21b皆沿本體11長邊方向延伸設置。且下部電極21a及上部電極21b各底部21aa、21ba固定於本體11，平板狀各側部21ab、21bb包夾開口部13而自本體11突出且相互平行而配置。
    下部電極21a及上部電極21b之間以直流電源22電性連接，故產生相互不同極之電位。本實施形態中，下部電極21a連接直流電源22之陰極，上部電極21b連接直流電源22之陽極，故於下部電極21a產生負電位，於上部電極21b產生正電位。
    電動致動器10中，導件16沿軌道15移動時，軸承與軌道15之面摩擦而產生微粒P。如此之微粒P帶有因摩擦而產生之靜電，故通常具有負或正電荷。微粒P若變小，微粒P之運動中相較於因重力產生之自由落體運動布朗運動即會具有支配性，故微粒P有時會於本體11內部任意移動，經由間隙19朝本體11外側流出。
    然而，流出之微粒P具有負或正電荷，故微粒P自下部電極21a或上部電極21b其中一方電極受到因靜電力產生之引力，另一方面自下部電極21a或上部電極21b其中另一方受到因靜電力產生之斥力。
    本案發明人藉由模擬計算下部電極21a及上部電極21b之間之壓力為10Pa，下部電極21a及上部電極21b之間隔為30mm，下部電極21a及上部電極21b之電位差為24V時，於具有1價電荷之微粒P所產生之因重力造成的移動速度、因布朗運動造成的移動速度及因靜電力造成的移動速度，顯示其結果於以下圖2之曲線圖。
    圖2係顯示在既定條件下藉由模擬所計算、於微粒產生之各移動速度之曲線圖。
    圖2曲線圖中縱軸表示移動速度，橫軸表示微粒P之粒徑。且實線表示因重力產生之移動速度，短劃線表示因布朗運動產生之移動速度，虛線表示因靜電力產生之移動速度。
    如圖2曲線圖所示，已確認微粒P之粒徑若在300nm以下，因靜電力所造成的移動速度即會超過因重力所造成的移動速度或因布朗運動所造成的移動速度。亦即，已確認微粒P之粒徑若變小，微粒P之運動中相較於自由落體運動或布朗運動因靜電力造成的運動即會具有支配性。
    因此，在既定條件下，例如粒徑在300nm以下之微粒P會如圖3所示，因靜電力而接近下部電極21a側部21ab或上部電極21b側部21bb。
    惟即使流出之具有負或正電荷之微粒P因靜電力而接近側部21ab或側部21bb，因該微粒P持續朝本體11外側運動，故若側部21ab或側部21bb短(突出量小)，上述微粒P仍有在到達下部電極21a側部ab或上部電極21b側部21bb前，自由側部21ab及側部21bb所包夾之空間流出之虞。
    因應此側部21ab或側部21bb宜長(突出量宜大)，側部21ab或側部21bb之長度至少宜較開口部13之寬(圖3中關於上下方向之寬)長。藉此，可防止具有負或正電荷之微粒P在到達側部21ab或側部21bb前自由側部21ab及側部21bb所包夾之空間流出。
    構成下部電極21a及上部電極21b之構件雖係導電性構件即可，但有時處理氣體所包含之腐蝕性氣體會自運送之晶圓揮發，故宜以樹脂類塗層等包覆構成下部電極21a及上部電極21b之構件。
    且為確實藉由靜電力使微粒P吸附於側部21ab或側部21bb，下部電極21a及上部電極21b之電位差宜大。惟在低壓環境下，下部電極21a及上部電極21b之電位差若大在此等電極之間即會有發生異常放電之虞。另一方面，依白仙定律，例如在殘留少量氮氣(N2氣體)之低壓環境下只要電位差不超過500V，即不會產生異常放電。因此，下部電極21a及上部電極21b之電位差宜在500V以下，若亦考慮作用於微粒P之靜電力宜維持該電位差於數十V附近。
    且在下部電極21a及本體11之間，以及上部電極21b及本體11之間夾設絕緣構件23，該絕緣構件23使下部電極21a或上部電極21b與本體11絕緣。藉此，於本體11不產生電位，可防止本體11靜電吸附微粒P。絕緣構件23由矽橡膠或金屬氧化膜等構成，藉由塗布或噴敷形成。
    依上述電動致動器10，在形成於本體11側面之開口部13之兩旁，包夾該開口部13而自本體11朝該本體11外側突出，且沿本體11長邊方向延伸設置之一對電極21之上部電極21b中產生正電位，於下部電極21a中產生負電位，故自本體11內部經由間隙19朝本體11外側流出、具有負或正電荷之微粒P會因靜電力而吸附於產生與該微粒P之電荷極相反之一極的電位之電極(下部電極21a或上部電極21b)。其結果，可防止具有負或正電荷之微粒P自本體11離開。
    且如上述，具有負或正電荷之微粒P難以自電動致動器10飛散，故自電動致動器10飛散之微粒P大致不會因重力而落下，於較該電動致動器10更下方附著於存放或運送之晶圓表面。其結果，可提升電動致動器10配置之自由度。
    於例如基板運送室可配置電動致動器10於上方。具體而言，如圖4所示，在作為基板運送室之轉移模組40中，可將用來移動水平多關節型運送臂41(基板運送裝置)之2個電動致動器10配置於轉移模組40內上方。藉此，可越過配置於轉移模組40內下方之其他運送臂或晶圓用緩衝器而運送晶圓W，藉此，可實現效率佳之晶圓W的運送。且在轉移模組40內增加晶圓W運送路徑時，不需僅配置多數運送臂於轉移模組40內下方，故可防止轉移模組40之設置面積(佔有面積)增加。
    上述電動致動器10中，下部電極21a側部21ab或上部電極21b側部21bb雖單純呈平板狀，但亦可使側部21ab或側部21bb至少1處彎曲。例如圖5(A)所示，亦可於滑件12設置朝本體11外側突出且具有2固彎曲處之突出部12a，藉由下部電極21a側部21ab及上部電極21b側部21bb於其間包夾該突出部12a，且構成側部21ab及側部21bb俾沿突出部12a彎曲。藉此，自開口部13橫跨一對電極21之開放端，在下部電極21a側部21ab及滑件12突出部12a之間，以及上部電極21b側部21bb及突出部12a之間形成彎曲通道50a、50b。自本體11內部經由間隙19朝本體11外側流出之微粒P通過該彎曲通道50a、50b，故於彎曲通道50a、50b中之彎曲處碰撞突出部12a或各側部21ab、21bb。其結果，微粒P停留於彎曲通道50a、50b內，故可防止微粒P自一對電極21之開放端流出。且本變形例中，藉由與構件之碰撞，亦即力學性之手法使微粒P停留於彎曲通道50a、50b內，故即使微粒P未具有負或正電荷亦可防止微粒P離開本體11。
    且上述電動致動器10中，本體11開口部13雖於側方開口，但亦可例如圖5(B)所示，使開口部13朝上方開口。此時，重力對自本體11內部經由間隙19朝本體11外側流出之微粒P作用，俾其回到本體11內部。其結果，可確實防止微粒P離開本體11。且本變形例中，重力對微粒P作用而使其回到本體11內部，故即使微粒P未具有負或正電荷亦可回到本體11內部。
    其次，說明關於依本發明第2實施形態之電動致動器。
    本實施形態其構成、作用基本上與上述第1實施形態相同，故關於重複之構成、作用省略說明，以下說明關於不同之構成、作用。
    以往，在既定壓力以上環境下，例如大氣壓環境下使用電動致動器時，微粒會被氣流捲入而移動，故例如圖6所示，設置使電動致動器60本體61內部減壓之排氣裝置62，設定本體61內部壓力低於本體61外側壓力以產生自本體61外側朝內部流動之氣流F，藉由該氣流F防止微粒自本體61內部朝外側流出。
    然而，使用包含腐蝕性氣體，例如溴氣之處理氣體於晶圓之處理時，於基板運送室利用電動致動器運送晶圓之際，有時腐蝕性氣體會自該晶圓揮發。此時，若本體61內部壓力低於本體61外側壓力，有時即會朝本體61內部抽吸腐蝕性氣體，腐蝕配置於本體61內部之軌道、導件或馬達。
    依本實施形態之電動致動器中，因應此，設定本體內部壓力高於本體之外側壓力。
    圖7係概略顯示依本實施形態之電動致動器構成之剖面圖。
    圖7中，電動致動器70包含連接本體11之壓力控制裝置71。壓力控制裝置71朝本體11內部送入氣體等，維持本體11內部壓力高於本體11外側壓力(外部壓力)。藉此，不會朝本體11內部抽吸腐蝕性氣體等，故可防止腐蝕配置於本體11內部之軌道15、導件16或馬達。
    另一方面，若維持本體11內部壓力高於本體11外側壓力，即會產生自本體11內部朝外側流動之氣流F’。因此氣流F’於本體11內部產生之微粒P雖會經由間隙19朝本體11外側流出，但流出之具有負或正電荷之微粒P會因靜電力而接近下部電極21a側部21ab或上部電極21b側部21bb。亦即，依上述電動致動器70，可防止朝本體11內部抽吸腐蝕性氣體，並可防止具有負或正電荷之微粒P離開本體11。
    電動致動器70中自壓力控制裝置71送入本體11內部之氣體雖只要非腐蝕性氣體即可，但宜係例如惰性氣體所構成之乾燥氣體。
    又，電動致動器70中，與上述圖5(A)或圖5(B)第1實施形態之變形例相同，亦可於滑件12設置突出部12a，且使下部電極21a側部21ab或上部電極21b側部21bb沿突出部12a彎曲而形成彎曲通道50a、50b，且亦可使開口部13朝上方開口。
    以上，雖已就本發明使用上述各實施形態說明之，但本發明不由上述各實施形態限定。
    C-C‧‧‧線
    F、F’‧‧‧氣流
    P‧‧‧微粒
    W‧‧‧晶圓
    10、60、70、80‧‧‧電動致動器
    11、61、81‧‧‧本體
    12、82‧‧‧滑件(基部)
    12a‧‧‧突出部
    13、88‧‧‧開口部
    14、89‧‧‧防塵密封帶
    15、83‧‧‧軌道
    16、84‧‧‧導件
    17、86‧‧‧皮帶
    18、85‧‧‧托架
    19、90‧‧‧間隙
    20、87‧‧‧螺孔
    21‧‧‧一對電極
    21a‧‧‧下部電極
    21b‧‧‧上部電極
    21aa、21ba‧‧‧底部
    21ab、21bb‧‧‧側部
    22‧‧‧直流電源
    23‧‧‧絕緣構件
    40‧‧‧轉移模組
    41‧‧‧運送臂
    50a、50b‧‧‧彎曲通道
    62‧‧‧排氣裝置
    71‧‧‧壓力控制裝置
    圖1概略顯示依本發明第1實施形態之電動致動器構成，圖1(A)係前視圖，圖1(B)係底視圖，圖1(C)係關於圖1(A)中線C-C之剖面圖。
    圖2係顯示在既定條件下藉由模擬計算之發生於微粒之各移動速度之曲線圖。
    圖3係用來說明經由本體及防塵密封帶之間隙朝本體之外側流出之微粒因靜電力而由下部電極側部或上部電極側部吸附之情形之圖。
    圖4係用來說明圖1電動致動器於基板運送室之配置情形之圖。
    圖5係概略顯示圖1電動致動器變形例構成之剖面圖，圖5(A)係第1變形例，(B)係第2變形例。
    圖6係概略顯示具有排氣裝置之習知電動致動器構成之剖面圖。
    圖7係概略顯示依本發明第2實施形態之電動致動器構成之剖面圖。
    圖8概略顯示習知之電動致動器構成，圖8(A)係前視圖，圖8(B)係底視圖，圖8(C)係關於圖8(A)中線C-C之剖面圖。
    圖9係用來說明習知之電動致動器中微粒朝本體之外側流出情形之圖。
    C-C‧‧‧線
    10‧‧‧電動致動器
    11‧‧‧本體
    12‧‧‧滑件(基部)
    13‧‧‧開口部
    14‧‧‧防塵密封帶
    15‧‧‧軌道
    16‧‧‧導件
    17‧‧‧皮帶
    18‧‧‧托架
    19‧‧‧間隙
    20‧‧‧螺孔
    21‧‧‧一對電極
    21a‧‧‧下部電極
    21b‧‧‧上部電極
    22‧‧‧直流電源
    23‧‧‧絕緣構件
    权利要求:
    Claims (7)
    [1] 一種電動致動器，包含：本體，由細長狀框體所構成；基部，以可任意往復之方式沿該本體長邊方向移動；開口部，對應於該基部之移動通道而形成於該本體側面；及密封構件，設置成包覆該開口部；且該電動致動器之特徵在於：包含一對電極，該一對電極於該開口部兩旁自該本體朝該本體之外側突出，且沿該本體長邊方向延伸設置，而包夾著該開口部，於該一對電極其中一者產生正電位，而於該一對電極其中另一者產生負電位。
    [2] 如申請專利範圍第1項之電動致動器，其中：維持該本體內部壓力高於該本體外部壓力。
    [3] 如申請專利範圍第1或2項之電動致動器，其中：該基部包含朝該本體之外側突出之突出部，該突出部至少具有1個彎曲處，該一對電極包夾該基部之該突出部，且沿該受包夾之突出部彎曲。
    [4] 如申請專利範圍第1至3項中任一項之電動致動器，其中：該開口部朝上方開口。
    [5] 如申請專利範圍第1至4項中任一項之電動致動器，其中：將運送基板之基板運送裝置安裝於該基部。
    [6] 如申請專利範圍第1至5項中任一項之電動致動器，其中：在該一對電極與該本體之間夾設絕緣構件，該一對電極與該本體電性絕緣。
    [7] 如申請專利範圍第1至6項中任一項之電動致動器，其中：該密封構件係密封帶。
    类似技术:
    公开号 | 公开日 | 专利标题
    TWI525030B|2016-03-11|電動致動器
    KR20080046761A|2008-05-28|기판이송장치 및 이를 구비하는 박막 형성 장치
    JP2019527923A|2019-10-03|磁気浮上システム、磁気浮上システム用のキャリア、及び、磁気浮上システムを動作させる方法
    JP2013513947A|2013-04-22|電気水力学冷却システムのためのコレクタ・ラジエータ構造
    JP2009176939A|2009-08-06|基板把持装置およびそれを備えた基板搬送ロボット、半導体製造装置
    US9752703B2|2017-09-05|Methods and apparatus to reduce shock in a slit valve door
    KR20010020278A|2001-03-15|기류반송장치
    US8482898B2|2013-07-09|Electrode conditioning in an electrohydrodynamic fluid accelerator device
    JP2014535161A|2014-12-25|１つのトランジスタを有するｒａｍメモリセル
    JP5631488B2|2014-11-26|耐摩耗性の形状を有するエミッタ線調整装置
    US20120103568A1|2012-05-03|Layered Emitter Coating Structure for Crack Resistance with PDAG Coatings
    TWI611119B|2018-01-11|定位滑台
    JP2009023020A|2009-02-05|防塵機構を備えた基板搬送ロボット及びそれを備えた半導体製造装置
    TWI681134B|2020-01-01|低發塵線性模組
    KR101526091B1|2015-06-04|직동안내장치
    JP4959372B2|2012-06-20|試料ホルダとそれを用いた検査装置および試料処理方法
    JP2009090281A|2009-04-30|静電霧化装置
    KR20130062785A|2013-06-13|진공케이블 덕트가 구비된 진공챔버용 로봇의 주행장치
    CN208608165U|2019-03-15|基板载台和离子注入设备
    JPH10199959A|1998-07-31|直進動作ロボット
    KR20210066033A|2021-06-07|반도체 기판 처리 시스템
    JP2012002408A|2012-01-05|ミニエンバイロメント装置
    KR102140968B1|2020-08-05|얇은 게이트 산화막의 터널링 특성 분석 방법
    JP2011236051A|2011-11-24|帯電抑制搬送装置
    US20190164726A1|2019-05-30|Plasma processing apparatus
    同族专利:
    公开号 | 公开日
    KR101680421B1|2016-11-28|
    TWI525030B|2016-03-11|
    KR20140031309A|2014-03-12|
    JP5732329B2|2015-06-10|
    US20140110224A1|2014-04-24|
    WO2012176913A1|2012-12-27|
    JP2013008835A|2013-01-10|
    US9096395B2|2015-08-04|
    引用文献:
    公开号 | 申请日 | 公开日 | 申请人 | 专利标题
    JPH0751756B2|1985-11-09|1995-06-05|日電アネルバ株式会社|集塵装置付薄膜処理装置|
    JPS6422042A|1987-07-17|1989-01-25|Kyushu Nippon Electric|Vacuum transfer chamber of semiconductor manufacturing equipment|
    JPH05283510A|1992-03-31|1993-10-29|Nippon Seiko Kk|位置決めテーブル装置|
    JP3414042B2|1995-04-18|2003-06-09|日本精工株式会社|低発塵直動アクチュエータ|
    JP3570077B2|1996-05-08|2004-09-29|日本精工株式会社|無吸引クリーンアクチュエータ|
    JP4005248B2|1998-12-28|2007-11-07|株式会社アイエイアイ|アクチュエータ|
    JP2000230618A|1999-02-10|2000-08-22|Thk Co Ltd|防塵型案内装置|
    JP2002353086A|2001-05-30|2002-12-06|Sony Corp|半導体製造装置及び半導体製造方法|
    US6832680B1|2001-09-03|2004-12-21|Hirata Corporation|Work conveying system and traveling path sealing structure in the work conveying system|
    JP4155781B2|2001-11-26|2008-09-24|日本トムソン株式会社|スライド装置のシール構造|
    US6935828B2|2002-07-17|2005-08-30|Transfer Engineering And Manufacturing, Inc.|Wafer load lock and magnetically coupled linear delivery system|
    JP4452551B2|2004-05-11|2010-04-21|日本トムソン株式会社|低発塵用スライド装置|
    JP4959372B2|2007-02-27|2012-06-20|京セラ株式会社|試料ホルダとそれを用いた検査装置および試料処理方法|
    JP4753092B2|2007-07-18|2011-08-17|株式会社安川電機|防塵機構を備えた基板搬送ロボット及びそれを備えた半導体製造装置|
    JP5388643B2|2009-03-19|2014-01-15|東京エレクトロン株式会社|基板搬送装置及び基板搬送方法|DE102014118972A1|2014-12-18|2016-06-23|Weber Maschinenbau Gmbh Breidenbach|Bewegungsvorrichtung mit Abdeckung|
    JP2019118962A|2017-12-28|2019-07-22|日本電産サンキョー株式会社|産業用ロボット|
    法律状态:
    优先权:
    申请号 | 申请日 | 专利标题
    JP2011140460A|JP5732329B2|2011-06-24|2011-06-24|電動アクチュエータ|
    [返回顶部]